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光學鍍膜機
光學鍍膜機鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變材料表面的反射和透射特性。真空鍍膜設備光學鍍膜是在光學干涉原理,在可見光和紅外線波段范圍內,使反射率在78-98%之間,以達到透光率,真空鍍膜機光學真空鍍膜技術一直是光學領域中不可忽略的重要基礎技術。
在我們的日常生活中,光學鍍膜機光學鍍膜隨處可見,如平時戴的眼鏡、數碼相機、各式家電用品,或者是鈔票上的防偽技術,醫用領域的各種設備、軍事領域的武器等等。最普遍的是在太陽光下看手機屏的字,由于反射光透不強,屏幕模糊,這需要屏幕的光學鍍膜來達到透射清晰效果。
在光學鍍膜機光學鍍膜材料的應用上,真空鍍膜設備鍍膜靶材是核心技術,通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學鍍膜材料,普遍應用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。在反射鏡的光學材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬,在輸出端和透射光學原件中鍺、砷化鎵、硒化鋅等應用廣泛。
真空鍍膜機光學鍍膜材料的原材料,絕大部分屬于儲量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬隨著科技的發展,其需求長期看漲,這些原材料在泛亞有色金屬交易所上市,其金融屬性逐漸被社會大眾認可,并成為投資標的。隨著真空鍍膜機鍍膜技術的不斷推廣,光學鍍膜機光學鍍膜技術的應用領域也在不斷拓寬,隨著我們生活水平的提高,這些具有優異物理特性的金屬將為我們的生活帶來更多的精彩。
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